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名稱(chēng)：脈沖激光沉積系統(tǒng)
品牌：Neocera
產(chǎn)地：美國(guó)
型號(hào)：Pioneer 120 Advanced PLD System
Neocera Pioneer 系列 PLD 系統(tǒng)— 基于卓越經(jīng)驗(yàn)的創(chuàng)新設(shè)計(jì)，利用PLD 開(kāi)展了深入廣泛的研究，建立了獲得薄膜質(zhì)量的臨界參數(shù)，特別適用于沉積復(fù)雜氧化物薄膜。
這些思考已經(jīng)應(yīng)用于Pioneer 系統(tǒng)的設(shè)計(jì)之中。
? 很多復(fù)雜氧化物薄膜在相對(duì)高的氧壓（>100 Torr）下冷卻可獲得更高的質(zhì)量。所有Pioneer 系統(tǒng)都具備此功能（壓力范圍可從額定初始?jí)簭?qiáng)到大氣壓）。這也有益于納米粒子的生成。
? Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的最大均勻性，同時(shí)避免使用復(fù)雜而昂貴的光學(xué)部件。更大的入射角能夠拉長(zhǎng)靶材上的激光斑點(diǎn)，導(dǎo)致密度均勻性的損失。
? 為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵，消除油的回流對(duì)薄膜質(zhì)量的影響，所有Pioneer 系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置都采用無(wú)油泵系統(tǒng)。
? 我們的研究表明靶和基片的距離是獲得薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)可以控制靶材和基片的距離，以達(dá)到最優(yōu)的沉積條件。
| 項(xiàng)目 | Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120A |
| 最大wafer 直徑 | 8” | 6” | 2” |
| 最大靶材數(shù)量 | 6 個(gè)1” 或3 個(gè)2” | 6 個(gè)1” 或3 個(gè)2” | 6 個(gè)1” 或3 個(gè)2” |
| 壓力(Torr) * | 5*10-8 | 5*10-9 | 5*10-9 |
| 真空室直徑 | 24” | 18” | 12” |
| 基片加熱器 | 360°旋轉(zhuǎn) | 360°旋轉(zhuǎn) | 360°旋轉(zhuǎn) |
| 最高樣品溫度 | 850 ℃ | 850 ℃ | 950 ℃ |
| Turbo 泵抽速* （liters/sec） | 700 軟件控制 | 400 軟件控制 | 260 軟件控制 |
| 計(jì)算機(jī)控制 | 包括 | 包括 | 包括 |
| 基片旋轉(zhuǎn) | 包括 | 包括 | 選件 |
| 基片預(yù)真空室 | 包括 | 選件 | 選件 |
| 掃描激光束系統(tǒng) | 包括 | 選件 | - |
| 靶預(yù)真空室 | 包括 | 選件 | - |
| IBAD 離子束輔助沉積 | 選件 | 選件 | 選件 |
| CCS 連續(xù)組成擴(kuò)展 | 選件 | 選件 | - |
| 高壓RHEED | 選件 | 選件 | 選件 |
| 520 liters/sec 泵 | N/A | 選件 | - |
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脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨(dú)特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時(shí)，工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬，達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過(guò)控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨(dú)特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。另外，PLD 是一種“ 數(shù)字” 技術(shù)，在納米尺度上進(jìn)行工藝控制（?/pulse）。
? Neocera 在PLD 設(shè)備與工藝開(kāi)發(fā)方面卓越的經(jīng)驗(yàn)
? Pioneer 系列PLD 系統(tǒng)是全球研發(fā)領(lǐng)域廣泛使用的商業(yè)化系統(tǒng)
? Neocera 不僅為客戶(hù)提供最基本的PLD 系統(tǒng)，也提供完整的PLD 實(shí)驗(yàn)室交鑰匙方案